Motorola Semiconductor Product Sector, 3501 Ed Bluestein BLVD, M/D K20, Austin, TX 78721;
phase shift mask; polarized light; phase conflict; physical design;
机译:交替相移掩模设计方法在制造2 GHz以上声表面波器件的近场光刻中的应用
机译:基于Pancharatnam-Berry相的可切换液晶相移掩模,用于超分辨率光刻
机译:高透射率嵌入层在透射率控制掩模中的应用仿真及衰减相移掩模的优化设计
机译:偏振相移掩模:光刻工艺和物理设计的概念,设计和潜在优势
机译:使用相移掩模在高数值孔径光刻中表征偏振照明。
机译:系统的生物启发设计过程:具有多模式运动能力的可重构机器人的概念设计和物理原型。
机译:为完整逻辑门电平启用交替相移掩模设计:设计规则和设计规则检查