Philips Extreme UV GmbH, 52074 Aachen, Germany, Steinbachstr. 15;
EUV source; gas discharge plasma; EUV lithography;
机译:用于微光刻的EUV源中的物理过程
机译:使用激光等离子EUV光源对PET表面进行物理和化学改性
机译:使用激光等离子EUV光源对PET表面进行物理和化学改性
机译:HCT EUV源的物理特性
机译:明亮相干超快速桌面光源的开发以及EUV在软X射线吸收光谱学中的应用。
机译:匈牙利甲烷螺旋藻的L-苹果酸-NAD +氧化还原酶的动力学和物理性质,并与其他来源的酶进行比较。
机译:EUV(极端超紫色)光源研究的现状和未来4.Aser产生的等离子体光源4.1激光产生的等离子体EUV源开发
机译:军事田间水质评价:第2卷。自然和人为来源军事关注的成分:第3部分。无机化学品和物理性质