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Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA
Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA
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1.
Characterization and Characteristics of a ULE~(~R) Glass Tailored for the EUVL Needs
机译:
满足EUVL需求的ULE〜(〜R)玻璃的表征和特性
作者:
Kenneth E. Hrdina
;
Benjamin Z. Hanson
;
Philip M. Fenn
;
Robert Sabia
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
ULE;
inclusions;
optics;
photomasks;
striae;
homogeneity;
thermal expansion;
metrology;
2.
At-wavelength inspection of defect smoothing in EUVL masks
机译:
波长检查EUVL掩模中的缺陷平滑度
作者:
Moonsuk Yi
;
Mincheol Park
;
Paul Mirkarimi
;
Cindy Larson
;
Jeffrey Bokor
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
at-wavelength;
actinic;
defect smoothing;
EUVL;
mask;
phase defect;
inspection;
3.
Damage-free Mask Repair Using Electron Beam Induced Chemical Reactions
机译:
使用电子束诱导的化学反应进行无损口罩修复
作者:
Ted Liang
;
Alan Stivers
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUVL mask;
mask repair;
electron beam induced etch and deposition;
4.
Controlling Contamination in Mo/Si Multilayer Mirrors by Si Surface-capping Modifications
机译:
通过Si表面封盖修饰控制Mo / Si多层镜中的污染
作者:
M. Malinowski
;
C. Steinhaus
;
M. Clift
;
L. E. Klebanoff
;
S. Mrowka
;
R. Soufli
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
multilayer mirror;
extreme ultraviolet;
carbon deposition;
photoelectrons;
ETS;
5.
Direct photopatterning of metal oxide materials using photosensitive organometallic precursor films
机译:
使用光敏有机金属前体膜对金属氧化物材料进行直接光图案化
作者:
Sean J. Barstow
;
Augustin Jeyakumar
;
Clifford L. Henderson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
organometallic;
photosensitive;
solution deposition;
spin-on;
oxide;
BST;
6.
Environmental Data From the Engineering Test Stand
机译:
工程测试台的环境数据
作者:
L. E. Klebanoff
;
P.A. Grunow
;
S. Graham
;
W.M. Clift
;
A.H. Leung
;
S.J. Haney
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
optics;
contamination;
EUV;
lithography;
cleaning;
ETS;
7.
EXTATIC, ASML's α-tool development for EUVL
机译:
EXTATIC,ASML为EUVL开发的α工具
作者:
Hans Meiling
;
Jos Benschop
;
Rob Hartman
;
Peter Kuerz
;
Peter Hoghoj
;
Roland Geyl
;
Noreen Harned
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
8.
High-Power, Laser-Produced-Plasma EUV Source
机译:
大功率激光产生的等离子EUV光源
作者:
William P. Ballard
;
Luis J. Bernardez
;
Robert E. Lafon
;
Richard J. Anderson
;
Yon Perras
;
Alvin Leung
;
Harry Shields
;
Michael B. Petach
;
Randall J. St. Pierre
;
Robert Bristol
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUVL;
lithography;
laser-produced plasma;
laser plasma source;
9.
IMPACT OF EUV LIGHT SCATTER ON CD CONTROL AS A RESULT OF MASK DENSITY CHANGES
机译:
由于面罩密度变化,EUV散射光对CD控制的影响
作者:
Christof Krautschik
;
Masaaki Ito
;
Iwao Nishiyama
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
light scatter;
flare;
CD control;
mask density change;
power spectral density (PSD);
mirror surface roughness;
10.
High Resolution Templates for Step and Flash Imprint Lithography
机译:
步进和闪存压印光刻的高分辨率模板
作者:
D. J. Resnick
;
W. J. Dauksher
;
D. Mancini
;
K. J. Nordquist
;
E. Ainley
;
K. Gehoski
;
J. H. Baker
;
T. C. Bailey
;
B. J. Choi
;
S. Johnson
;
S. V. Sreenivasan
;
J. G. Ekerdt
;
C. G. Willson
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
imprint;
lithography;
template;
step;
flash;
11.
Lithographic Evaluation of the EUV Engineering Test Stand
机译:
EUV工程测试台的平版印刷评估
作者:
Sang H. Lee
;
Daniel A. Tichenor
;
William P. Ballard
;
Luis J. Bernardez II
;
John E. M. Goldsmith
;
Steven J. Haney
;
Karen L. Jefferson
;
Terry A. Johnson
;
Alvin H. Leung
;
Donna J. OConnell
;
William C. Replogle
;
John B. Wronosky
;
Kenneth Blaedel
;
Patrick Nau
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet;
lithography;
laser-produced plasma;
flare;
aerial image contrast;
resist resolution;
12.
Mechanical modeling of the reticle and chuck for EUV lithography
机译:
用于EUV光刻的标线和卡盘的机械建模
作者:
Carl J. Martin
;
Andrew R. Mikkelson
;
Richard O. Tejeda
;
Roxann L. Engelstad Edward G. Lovell
;
Kenneth L. Blaedel
;
Andre A. Claudet
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
EUV reticles;
exposure;
electrostatic chuck;
finite elements;
thermomechanical response;
particle contamination;
13.
Low-Temperature Wafer-Scale 'WARM' Embossing for Mix Match with UV-Lithography
机译:
低温晶圆级'WARM'压印,可与UV平版印刷混合使用
作者:
Hubert Schulz
;
Matthias Wissen
;
Nils Roos
;
Hella-Christin Scheer
;
Karl Pfeiffer
;
Gabi Gruetzner
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
nanoimprint lithography;
UV lithography;
mix and match;
low temperature embossing;
wafer scale;
14.
NGL process and the role of International SEMATECH
机译:
NGL流程和国际SEMATECH的作用
作者:
Giang Dao
;
R. Scott Mackay
;
Phil Seidel
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUVL;
EUV masks;
electron projection lithography;
15.
Nanotechnologies and nanolithography in Europe
机译:
欧洲的纳米技术和纳米光刻
作者:
Jean-Charles Guibert
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
16.
Performance of 4' Wafer-Scale Thermoset Working Stamps in Hot Embossing Lithography
机译:
热压平版印刷中4“晶圆级热固性工作印模的性能
作者:
Nils Roos
;
Hubert Schulz
;
Marion Fink
;
Karl Pfeiffer
;
Frank Osenberg
;
Hella-Christin Scheer
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
hot embossing lithography;
nanoimprint;
thermoset;
wafer scale;
anti-sticking;
working stamps;
17.
Pattern Printability for Off-axis Incident Light in EUV Lithography
机译:
EUV光刻中离轴入射光的图案可印刷性
作者:
Minoru Sugawara
;
Masaaki Ito
;
Taro Ogawa
;
Eiichi Hoshino
;
Akira Chiba
;
Shinji Okazaki
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
off-axis incident light;
MEF;
aberration;
OPE;
OPC;
18.
The Impact of EUVL Mask Buffer and Absorber Material Properties on Mask Quality and Performance
机译:
EUVL面膜缓冲剂和吸收剂材料性能对面膜质量和性能的影响
作者:
Pei-yang Yan
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUVL mask;
EUVL mask absorber;
EUVL mask buffer;
EUVL lithography;
19.
STUDIES OF EUV CONTAMINATION MITIGATION
机译:
EUV污染缓解研究
作者:
S. Graham
;
M.E. Malinowski
;
C. E. Steinhaus
;
P. A. Grunow
;
L. E. Klebanoff
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
RF discharge cleaning;
atomic hydrogen;
optics;
contamination;
20.
Static Microfield Printing at the Advanced Light Source with the ETS Set-2 Optic
机译:
使用ETS Set-2光学元件在高级光源上进行静态微场打印
作者:
Patrick P. Naulleau
;
Kenneth A. Goldberg
;
Erik H. Anderson
;
David Attwood
;
Phillip Batson
;
Jeffrey Bokor
;
Paul Denham
;
Eric Gullikson
;
Bruce Harteneck
;
Brian Hoef
;
Keith Jackson
;
Deirdre Olynick
;
Seno Rekawa
;
Farhad Salmassi
;
Ken Blaedel
;
Henry Chapman
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
synchrotron radiation;
microfield printing;
decoherentizing illuminator;
21.
Status of the liquid-xenon-jet laser-plasma source for EUV lithography
机译:
液体氙射流激光等离子源的EUV光刻技术现状
作者:
Bjorn A. M. Hansson
;
Lars Rymell
;
Magnus Berglund
;
Oscar Hemberg
;
Emmanuelle Janin
;
Jalmar Thoresen
;
Sofia Mosesson
;
Johan Wallin
;
Hans M. Hertz
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
laser-produced plasma;
liquid jet;
xenon;
22.
Status of fabrication of square format masks for extreme ultraviolet lithography (EUVL) at the MCoC
机译:
在MCoC上制造用于极端紫外光刻(EUVL)的方形格式掩模的现状
作者:
Kenneth Racette
;
Carey Williams
;
Emily Fisch
;
Louis Kindt
;
Mark Lawliss
;
Robin Ackel
;
Michael Lercel
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
NGL;
EUVL;
chromium;
absorber;
buffer;
etch;
45nm;
23.
Verification studies of thermophoretic protection for EUV masks
机译:
EUV面罩热泳保护的验证研究
作者:
Daniel J. Rader
;
Daniel E. Dedrick
;
Eric W. Beyer
;
Alvin H. Leung
;
Leonard E. Klebanoff
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV lithography;
particle contamination control;
thermophoretic pellicle;
thermophoresis;
24.
Semiconductor Foundry, Lithography, and Partners
机译:
半导体代工厂,光刻和合作伙伴
作者:
B.J. Lin
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
25.
Worldwide technologies and the ITRS in the current economic climate
机译:
当前经济形势下的全球技术和ITRS
作者:
Paolo Gargini
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
lilthography;
26.
Three Dimensional Metrology in MEMS Applications
机译:
MEMS应用中的三维计量
作者:
Alexander Friz
;
Keith Best
;
Satinderpall Pannu
;
Jocelyn Nee
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
MEMS;
three dimensional metrology;
thick films;
27.
Thermal Expansion Behavior of Proposed EUVL Substrate Materials
机译:
提议的EUVL基材材料的热膨胀行为
作者:
Ina Mitra
;
Mark J. Davis
;
Jochen Alkemper
;
Rolf Mueller
;
Heiko Kohlmann
;
Lutz Aschke
;
Ewald Moersen
;
Simone Ritter
;
Hrabanus Hack
;
Wolfgang Pannhorst
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
thermal expansion;
CTE homogeneity;
EUVL;
zerodur;
28.
Lithography: A historical perspective and shape of things to come
机译:
平版印刷术:历史观点和未来事物的形态
作者:
Syed A. Rizvi
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
microelectronics;
nanoelectronics;
moletronics;
spintronics;
bio-molecules;
self-assembly;
29.
Development of diagnostic tools for the EUV spectral range
机译:
开发用于EUV光谱范围的诊断工具
作者:
K. Mann
;
S. Kranzusch
;
G. Eckert
;
C. Peth
;
B. Schaefer
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV optics;
13nm radiation;
laser-induced plasma;
multilayer mirror;
spectral characteristics;
gas puff target;
hartmann-shack sensor;
30.
EUVL mask blank repair
机译:
EUVL面膜空白修复
作者:
Anton Barty
;
Paul B. Mirkarimi
;
Daniel G. Stearns
;
Don Sweeney
;
Henry N. Chapman
;
Miles Clift
;
Scott Hector
;
Moonsuk Yi
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
mask;
reticle;
defect;
multilayer;
printability;
cost of ownership;
31.
EUV Phase-shifting Masks and Aberration Monitors
机译:
EUV相移掩模和像差监视器
作者:
Yunfei Deng
;
Andrew R. Neureuther
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV;
phase-shifting;
mask patterning;
oblique incident;
ion-mixing;
phase edge;
diffraction;
aberration;
32.
EUV photoresist performance results from the VNL and the EUV LLC
机译:
EUV光刻胶的性能来自VNL和EUV LLC
作者:
Jonathan Cobb
;
Paul Dentinger
;
Luke Hunter
;
Donna OConnell
;
Gregg Gallatin
;
Bill Hinsberg
;
Frances Houle
;
Martha Sanchez
;
Wolf-Dieter Domke
;
Stefan Wurm
;
Uzodinma Okoroyanwu
;
Sang Hun Lee
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
photoresist;
resolution;
line-edge roughness;
photospeed;
EUVL;
33.
First Results from the Updated NIST/DARPA EUV Reflectometry Facility
机译:
更新的NIST / DARPA EUV反射仪设施的初步结果
作者:
S. Grantham
;
C. Tarrio
;
M. B. Squires
;
T. B. Lucatorto
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
34.
EUVL Masks: Requirements and Potential Solutions
机译:
EUVL口罩:要求和潜在的解决方案
作者:
Scott D. Hector
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
masks;
mask blanks;
multilayer coatings;
cost of ownership;
standards;
35.
Fabrication Challenges for Next Generation Devices: MEMS for RF Wireless Communications
机译:
下一代设备的制造挑战:用于射频无线通信的MEMS
作者:
David Seeger
;
Jennifer Lund
;
Christopher Jahnes
;
Lili Deligianni
;
Paivikki Buchwalter
;
Panayotis Andricacos
;
Raul Acosta
;
Inna Babich
;
Arpan Mahorowala
;
Joanna Rosner
;
John Cotte
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
关键词:
communications;
wireless;
passives;
MEMS;
36.
Honing the accuracy of extreme ultraviolet optical system testing: at-wavelength and visible-light measurements of the ETS Set-2 projection optic
机译:
磨练极端紫外线光学系统测试的准确性:ETS Set-2投影光学系统的波长和可见光测量
作者:
Kenneth A. Goldberg
;
Patrick Naulleau
;
Jeffrey Bokor
;
Henry N. Chapman
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
关键词:
interferometry;
extreme ultraviolet lithography;
EUV;
at-wavelength testing;
EUV visible-light comparison;
37.
High power EUV sources for lithography - A comparison of laser produced plasma and gas discharge produced plasma
机译:
高功率EUV光刻技术-激光产生的等离子体与气体放电产生的等离子体的比较
作者:
Uwe Stamm
;
Imtiaz Ahmad
;
Vladimir M. Borisov
;
Frank Flohrer
;
Kai Gabel
;
Sven Goetze
;
Alexander S. Ivanov
;
Oleg B. Khristoforov
;
Diethard Kloepfel
;
Peter Koehler
;
Juergen Kleinschmidt
;
Vladimir Korobotchko
;
Jens Ringling
;
Guido Schriever
;
Alexander Y. Vino
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV sources;
laser-produced plasma;
gas-discharge produced plasma;
Z-pinch;
EUV lithography;
38.
Inspection of EUV reticles
机译:
检查EUV标线
作者:
Donald Pettibone
;
Andrei Veldman
;
Ted Liang
;
Alan R. Stivers
;
Pawitter Mangat
;
Bing Lu
;
Scott Hector
;
James Wasson
;
Kenneth Blaedel
;
Emily Fisch
;
David M. Walker
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV;
reticle;
photomask;
inspection;
NGL;
39.
New PTB reflectometer for the characterization of large optics for the extreme ultraviolet spectral region
机译:
新型PTB反射仪可用于在极端紫外光谱区域表征大型光学器件
作者:
Johannes Tuemmler
;
Frank Scholze
;
Guido Brandt
;
Bernd Meyer
;
Frank Scholz
;
Katrin Vogel
;
Gerhard Ulm
;
Michael Poier
;
Udo Klein
;
Wolfgang Diete
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
关键词:
extreme ultraviolet;
metrology;
lithography;
at-wavelength characterization, reflectome-try;
synchrotron radiation;
40.
100-picometer interferometry for EUVL
机译:
用于EUVL的100色差干涉仪
作者:
Gary E. Sommargren
;
Donald W. Phillion
;
Michael A. Johnson
;
Nhan Q. Nguyen
;
Anton Barty
;
Franklyn J. Snell
;
Daren R. Dillon
;
Lloyd S. Bradsher
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
aspheric mirrors;
interferometry;
41.
Advances in low-defect multilayers for EUVL mask blanks
机译:
EUVL掩模坯料的低缺陷多层材料的进展
作者:
James A. Folta
;
J.Courtney Davidson
;
Cindy C. Larson
;
Christopher C. Walton
;
Patrick A. Kearney
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
EUVL;
next generation lithography;
NGL;
mask;
multilayer;
defect;
defect detection;
defect mitigation;
42.
A complete system of nano-imprint lithography for IC production
机译:
用于IC生产的完整的纳米压印光刻系统
作者:
Donald L. White
;
Obert R. Wood
;
II
;
Cheng-fu Chen
;
Edward G. Lovell
;
Roxann L. Engelstad
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
关键词:
nano-imprinting;
VLSI lithography;
overlay;
adaptive mold holder;
mold inspection;
43.
Novel Design of Att-PSM Structure for Extreme Ultra Violet Lithography and Enhancement of Image Contrast during Inspection
机译:
用于超紫外光刻的Att-PSM结构的新颖设计和检查过程中图像对比度的增强
作者:
Sang-In Han
;
James R. Wasson
;
Pawitter. J. S. Mangat
;
Jonathan L. Cobb
;
Kevin Lucas
;
Scott D. Hector
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
extreme ultraviolet lithography;
masks;
phase shift masks;
attenuated phase shift masks;
contact holes;
44.
Performance upgrades in the EUV Engineering Test Stand
机译:
EUV工程测试台的性能升级
作者:
Daniel A. Tichenor
;
William C. Replogle
;
Sang H. Lee
;
William P. Ballard
;
A. H. Leung
;
Glenn D. Kubiak
;
Leonard E. Klebanoff
;
Samuel Graham
;
John E. M. Goldsmith
;
Karen L. Jefferson
;
John B. Wronosky
;
Tony G. Smith
;
Terry A. Johnson
;
Harry Shields
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUVL;
lithography;
optical fabrication;
optical design;
laser-produced plasma;
laser plasma source;
maglev;
magnetic levitation;
stages;
precision engineering;
45.
Power Scale-Up of the Extreme Ultraviolet Electric Capillary Discharge Source
机译:
极端紫外线电毛细管放电源的功率放大
作者:
Neal R. Fornaciari
;
Howard Bender
;
Dean Buchenauer
;
Jason Dimkoff
;
Michael Kanouff
;
Steve Karim
;
Carmelo Romeo
;
Greg Shimkaveg
;
William T. Silfvast
;
Kenneth D. Stewart
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUVL;
EUV source;
plasma discharge source;
capillary discharge source;
46.
Physical Properties of the HCT EUV Source
机译:
HCT EUV源的物理特性
作者:
Joseph Pankert
;
Klaus Bergmann
;
Juergen Klein
;
Willi Neff
;
Oliver Rosier
;
Stefan Seiwert
;
Christopher Smith
;
Rolf Apetz
;
Jeroen Jonkers
;
Michael Loeken
;
Guenther Derra
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
关键词:
EUV source;
gas discharge plasma;
EUV lithography;
47.
REAP (Raster E-Beam Advanced Process) Using 50kV Raster E-beam System for Sub-100nm Node Mask Technology
机译:
使用50kV光栅电子束系统实现100nm以下掩模技术的REAP(光栅电子束高级工艺)
作者:
Ki-Ho Baik
;
Robert Dean
;
Mark Mueller
;
Maiying Lu
;
Homer Lem
;
Stephen Osborne
;
Frank Abboud
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
48.
Roll-to-roll manufacturing of thin film electronics
机译:
卷式生产薄膜电子产品
作者:
James R. Sheats
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
49.
Xenon Target Performance Characteristics for Laser-Produced Plasma EUV Sources
机译:
激光产生的等离子体EUV光源的氙靶性能特征
作者:
Harry Shields
;
Steven W. Fornaca
;
Michael B. Petach
;
Mark Michaelian
;
R. D. McGregor
;
Richard H. Moye
;
Randall St. Pierre
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
|
2002年
50.
Ultra-High Accuracy Measurement of the Coefficient of Thermal Expansion for Ultra-Low Expansion Materials
机译:
超低膨胀材料的热膨胀系数的超高精度测量
作者:
Vivek G. Badami
;
Michael Linder
会议名称:
《Conference on Emerging Lithographic Technologies VI Pt.1, Mar 5-7, 2002, Santa Clara, USA》
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2002年
关键词:
coefficient of thermal expansion;
dilatometry;
dilatometer;
laser interferometry;
ultra-high accuracy;
uncertainty estimate;
ULE;
periodic nonlinearity;
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