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用于EUV光源中的源材料调节的激光系统

摘要

公开了一种装置和方法,其中在施加主电离脉冲之前将来自单个激光源的多个(例如,两个或更多个)脉冲施加到源材料,其中多个脉冲由公共激光源生成。当源材料处于第一位置时,第一脉冲被引导朝向源材料,而当源材料处于第二位置时,第二脉冲被引导朝向源材料。

著录项

  • 公开/公告号CN113574970A

    专利类型发明专利

  • 公开/公告日2021-10-29

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 ASML荷兰有限公司;

    申请/专利号CN202080019183.5

  • 申请日2020-03-02

  • 分类号H05G2/00(20060101);

  • 代理机构11256 北京市金杜律师事务所;

  • 代理人赵林琳

  • 地址 荷兰维德霍温

  • 入库时间 2023-06-19 13:02:24

法律信息

  • 法律状态公告日

    法律状态信息

    法律状态

  • 2022-03-22

    实质审查的生效 IPC(主分类):H05G 2/00 专利申请号:2020800191835 申请日:20200302

    实质审查的生效

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