Precision Equipment Company, Nikon Corporation;
electron beam projection lithography (EPL); electron beam; data post-processing; data conversion; LSI pattern; proximity effect correction; space charge effect; stencil reticle; complementary reticle; stitching;
机译:电子束投影光刻的相对论焦点条件
机译:β工具的完成和低能电子束邻近投影光刻技术的最新进展
机译:用于低能电子束投影光刻的超薄膜抗蚀剂
机译:基于字符投影的电子束光刻技术高效制造复杂的纳米光学结构
机译:optical逝波辅助特性用于光学投影光刻。
机译:CUO / PMMA聚合物纳米复合材料作为电子束光刻的新型抗蚀剂材料
机译:氮化硅平台上的光子集成电路电子束光刻抗蚀剂参数的测定方法