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集成电路光刻模拟的数据后处理研究

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摘要

在集成电路光刻过程中,利用光刻模拟软件将光刻模拟结果与设计模板进行比较可以预先发现模板设计中的缺陷.由于光刻模拟软件与模板设计软件数据格式的不同影响了这一步工作的顺利完成.本文通过对两种软件数据格式的研究,利用Perl语言实现了两种软件之间数据格式的转换,具有一定的实用价值.

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来源
《兰州文理学院学报：自然科学版》 |2006年第3期|39-42|共4页
作者
贾志城; 陈乖丽;
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作者单位

甘肃政法学院图书馆;

航空航天工业部135厂;

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原文格式 PDF
正文语种 chi
中图分类 TP431.2;
关键词
光学邻近校正; 光刻模拟; 数据处理;

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