Computational Mechanics Center, University of Wisconsin, Madison, WI 53706;
EUV lithography; EUV reticles; exposure; finite elements; thermomechanical response;
机译:预测用于预生产和生产曝光工具的极紫外光刻掩模版的热机械变形
机译:铬图案特性对曝光过程中光学掩模版的热机械变形对图像放置的影响
机译:用于EUV掩模性的热处理站
机译:引脚夹紧EUV掩模版曝光期间的热机械建模
机译:光刻过程中标线的热机械响应的实验和数值研究。
机译:在单次损伤阈值以下的长期自由电子激光照射下EUV镜辐射损伤抵抗性的实验研究
机译:EUV和非EUV检查掩模版缺陷修复网站
机译:sEmaTECH High-Na光化学光罩检查项目(sHaRp)EUV面罩成像显微镜。