Brewer Science, Inc., 2401 Brewer Drive, Rolla, MO 65401, phone: 573-364-0300;
机译:193 nm浸没式光刻技术在65 nm节点处自由度对NA /σ依赖性的仿真研究
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用193nm浸没式光刻成像干涉光刻和偶极子照明对45nm半节距节点进行仿真
机译:用于193 nm光刻的双层染料填充显影剂可溶BARC
机译:高级光刻胶材料的设计和研究:减少环境影响的正性光刻胶和用于157 nm光刻的材料。
机译:基于嵌段共聚物光刻基于部分悬浮的2D材料的高性能场效应晶体管
机译:开发193-NM干燥和浸入式光刻的新型材料
机译:氧化铝作为193纳米准分子激光光刻的成像材料。