Universitaet Leipzig, Institut fuer Experimentelle Physik Ⅱ, Linnestrasse 5, 04103 Leipzig, Germany;
Universitaet Leipzig, Institut fuer Experimentelle Physik Ⅱ, Linnestrasse 5, 04103 Leipzig, Germany;
Universitaet Leipzig, Institut fuer Experimentelle Physik Ⅱ, Linnestrasse 5, 04103 Leipzig, Germany;
Universitaet Leipzig, Institut fuer Experimentelle Physik Ⅱ, Linnestrasse 5, 04103 Leipzig, Germany;
Schottky barrier diode; inhomogeneous barrier; wide band gap materials; current transport model-ing; gallium oxide; heteroepitaxial thin film;
机译:镓氮化镓肖特基势垒二极管氧化镓的建模,仿真和优化
机译:使用不同原子比率的Ga-Zn-O半导体薄膜的肖特基势垒二极管的装置特性
机译:基于室温的非晶硅锡氧化物薄膜的肖特基势垒二极管
机译:肖特基势势二极管特性在氧化β-镓氧化物薄膜上的建模
机译:金/(100)砷化镓和金/硅化铂/(100)硅二极管的肖特基势垒高度和弹道电子传输特性的横向变化。
机译:基于P型伪垂直金刚石肖特基势垒二极管正向电流-电压特性的迁移模型
机译:雾化化学气相沉积的异质轴α-GA2O3形成的肖特基势垒二极管的缺陷不敏感电流 - 电压特性
机译:砷化镓磷化物和磷化镓肖特基势垒二极管的辐射效应。