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【24h】

高速度鋼基板上へ形成したAlN 硬質被膜の構造解析

机译:高速钢基体上形成的AlN硬质涂层的结构分析

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摘要

代表的な硬質被膜は,ダイヤモンドやDLC(ダイヤモンド状炭素)が知られているが,炭素系被膜は,鉄系材料中への拡散による摩耗の課題がある.TiNやAlTiNに代表される窒化物系硬質被膜は,鉄中への拡散は無いがダイヤモンドの硬度100 Gpaに比べ30 %程度の硬度である.高硬度窒化物硬質被膜は,c-BNが候補でありバルクで40 Gpaの硬度を有するが,被膜形成には基板温度が1000 ˚C以上となるプラズマアシストCVDが主に報告されており,熱処理が施してある鉄系材料には適用が難しく,c-BN膜自体にも高い内部応力から母材との密着性が悪く,厚膜化が困難という課題が残っている[1].窒化物硬質被膜には,ナノ微結晶とアモルファスとの複合構造を有するナノコンポジット構造により高硬度化が期待でき,ナノ微結晶TiNとアモルファスSi3N4の構造でダイヤモンドに匹敵する105 Gpaのビッカース硬度を有するとの報告もある[2].
机译:金刚石和DLC(类金刚石碳)是典型的硬质涂层,但是碳基涂层由于扩散到铁基材料中而存在磨损问题。氮化物基硬质涂层(例如TiN和AlTiN)不会扩散到铁中,但是与100 Gpa的金刚石硬度相比,其硬度约为30%。对于高硬度氮化物硬质涂层,c-BN是一种候选材料,整体硬度为40 Gpa,但是主要报道了在涂层形成过程中具有1000°C或更高基板温度的等离子辅助CVD。由于c-BN膜本身的内部应力高,因此很难将其应用于已遭受过腐蚀的铁基材料,与基材的粘合性很差,并且难以使膜变厚[1]。由于具有纳米晶体和非晶态的复合结构的纳米复合结构,因此可以期待硬质氮化膜具有更高的硬度,纳米晶体TiN和非晶态的Si 3 N 4的维氏硬度为105 Gpa,与金刚石相当。还有一份报告[2]。

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