DCバイアスしたプレートチューナ一によるECRプラズマ生成効率化

机译：直流偏置平板调谐器提高ECR等离子体产生效率

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ECR多価イオン源においてマイクロ波の導入に関しては，R. Geller以来，経験的に真空容器内の導波管の位置を定めており，その導入方法は検討する余地があると考えられる.そこで我々はプレートチューナーと呼ばれる可動反射板を引き出し電極と対向する位置に真空容器と同電位にして設置し，反射板の位置を変化させることにより，ECRイオン源内でマイクロ波のチューニングを行った結果については，本学会で報告を行っている[1].今回は，プレートチューナ一にDC電圧を印加した際の結果について報告する.プレートに電圧を印加するバイアスディスク法はビーム強度増強のための経験的方法として知られており[2],この手法とマイクロ波のチユーニングを合わせることで，よりECRプラズマ生成の効率化を図ることができると期待される.

机译：关于将微波引入ECR多电荷离子源，自R.Geller以来，已经根据经验确定了波导在真空容器内部的位置，并且认为存在研究引入方法的空间。然后，我们在面向提取电极的位置上以与真空容器相同的电位安装了一个称为平板调谐器的可移动反射器，并改变了反射器的位置以调谐ECR离子源中的微波。在本文中，我们报告了在平板调谐器上施加直流电压时的结果，并采用了向平板施加电压的偏置盘法来增强光束强度。这被称为经验方法[2]，预计通过将这种方法与微波调谐相结合，可以进一步提高ECR等离子体的产生效率。

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来源
《応用物理学会春季学術講演会;応用物理学会》|2018年|7.37|共1页
会议地点
作者
濱田滉太; 渡辺拓人; 津田悠登; 大西広司; 竹田樹人; 加藤裕史;
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作者单位

阪大院ェ hamada@nf.eie.eng.osaka-u.ac.jp;

阪大院ェ;

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