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GaN基板上 基板上 n型および および p型エピ層 のキャリア のキャリア 再結合 の比

机译:GaN衬底上n型和p型外延层中载流子的载流子复合率

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摘要

GaNは優れた物性値 は優れた物性値 は優れた物性値 は優れた物性値 を持つこと を持つこと から 、パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 パワーデバイスへの応用が期待されている。 ノーマリオフの ノーマリオフの ノーマリオフの ノーマリオフの ノーマリオフの スイッチング スイッチング スイッチング デバイスには デバイスには デバイスには デバイスには 通常 n型と p型両方 の伝導型が 必要となるの伝導型が 必要となるの伝導型が 必要となるの伝導型が 必要となるの伝導型が 必要となるの伝導型が 必要となる、p型結晶 に含まれる結晶欠陥 に含まれる結晶欠陥 に含まれる結晶欠陥 に含まれる結晶欠陥 に含まれる結晶欠陥 が どのような どのような 電気伝導に 電気伝導に 対してどのような影響 対してどのような影響 対してどのような影響 対してどのような影響 対してどのような影響 を与えるかは十分 与えるかは十分 与えるかは十分 与えるかは十分 わかってい なわかってい なわかってい なわかってい な。我々は、 。我々は、 。我々は、 GaN 基板上 基板上 n型 GaNホモエピ層 ホモエピ層 ホモエピ層 に対してキャリア に対してキャリア に対してキャリア に対してキャリア 再結合 再結合 の測定を行 測定を行 って きた [1,2]。本研究では 本研究では 本研究では p型 GaNホモエピ層 ホモエピ層 ホモエピ層 の キャリア キャリア 再結合 再結合 測定を行った 測定を行った 測定を行った ため、その結果を報告する ため、その結果を報告する ため、その結果を報告する ため、その結果を報告する ため、その結果を報告する ため、その結果を報告する 。
机译:GaN具有优异的物理性质值,优异的物理性质值,优异的物理性质值,具有优异的物理性质值,预期将其应用于功率器件。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。预计将应用于功率设备。常关常关常关常关常关常关常关开关开关设备是设备设备是设备通常需要n型和p型导电类型的设备要求的电导率类型要求的电导率类型要求的电导率类型要求的晶体缺陷包括在p型晶体所包括的晶体缺陷中包括的晶体缺陷包括在p型晶体中包括的晶体缺陷中晶体缺陷具有什么样的导电性,它对导电性有什么样的影响,它具有什么样的影响,它具有什么样的影响,它具有什么样的影响,以及它具有什么样的影响。给予足够或给予足够的给予足够的我不知道我不知道我不知道。我们,。我们,。在GaN衬底上衬底上的n型GaN均质外延层同质外延层同质外延层对于载体,对于载体对于载体,对于载体进行了重组和复合测量[1, 2]。在这项研究中在这项研究中我们进行了p型GaN同质外延层同质外延层同质外延层的载流子-载流子复合测量测量我们报告了结果,因此我们报告了结果。为了报告结果,报告结果,报告结果,报告结果。

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