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プラズマスパッタ型イオン源の運転履歴に伴う引き出しイオン種の変化

机译:等离子溅射型离子源的运行历史引起的提取离子种类的变化

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摘要

反応性ガスを用いるプラズマスパッタ過程では,イオン源の運転時間に伴い内部壁面状態が変化する.それは反応性ガスとターゲット材料の相互作用により生成される化合物層形成に由来する.本研究では化合物として窒化アルミニウム(AlN)を採用し,窒素ガス雰囲気中でのAl ターゲットのスパッタ過程におけるイオン源の運転履歴と引き出しイオン種の相関性の調査を実施した.
机译:在使用反应气体的等离子体溅射工艺中,内壁表面的状态随离子源的工作时间而变化。它源自反应气体与目标材料之间相互作用产生的化合物层的形成。在这项研究中,采用氮化铝(AlN)作为化合物,并在氮气气氛中溅射Al靶的过程中研究了离子源的运行历史与提取的离子种类之间的相关性。

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