用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强溅射沉积法在玻璃表面制备氧化铟膜

摘要

利用微波电子自旋共振等离子源离子注入增强沉积法在玻璃表面制备了非化学计量半导体氧化铟膜。与反应溅射和反应沉积相比，此法制备的氧化相膜与玻璃基体的附着良好，并因高的注入能量而改善了玻璃表面硬度。同时研究了In与O的结合能及浓度深度分布。