Nissan Chemical Ind. Ltd., 635 Sasakura Fuchu-machi, Toyama, 939-2792, JAPAN;
gap fill material; wet recess; dual damascene (DD); isolated/dense fill bias; planarization;
机译:首次过孔金属镶嵌工艺中金属沟槽图案化的间隙填充材料的抗中毒研究
机译:显影剂可溶的间隙填充材料的开发,用于先通过双镶嵌工艺进行平面化
机译:通过第一个双镶嵌工艺在32-45nm的金属沟槽中进行图案化的紫外线交联间隙填充材料和平面化应用
机译:湿凹槽间隙填充材料,用于高级双镶嵌工艺
机译:电迁移增强了无铅焊点中铜-锡金属间化合物的动力学,并使用分步和闪光压印光刻技术进行了铜低k双大马士革工艺。
机译:药物交付的先进材料和加工:过去和未来
机译:4-1先进材料的连接的未来趋势:俄亥俄州立大学关于先进材料和方法的研究活动报告(第4节:先进材料的新连接方法,SIMAP'88国际材料加工创新战略研讨会论文集-21世纪的新挑战-)