Tokyo Electron Kyushu LTD. 650 Mitsuzawa, Hosakacho, Nirasaki city Yamanashi, 4070192, Japan;
immersion lithography; topcoat; particle; defect; surface voltage;
机译:使用纳米压印光刻和抗蚀剂图案转移技术在刚性和柔性基板上进行金属图案化工艺
机译:使用纳米压印光刻和抗蚀剂图案转移技术在刚性和柔性基板上进行金属图案化工艺
机译:使用电子束光刻技术和化学放大的抗蚀剂工艺制造7纳米四分之一间距的线和空间图案的理论研究:II。随机效应
机译:面漆缺陷的转移机理抗蚀剂抗蚀光刻工艺及蚀刻工艺的影响
机译:在感应耦合等离子体反应器中研究碳氟化合物沉积和蚀刻对硅和二氧化硅蚀刻工艺的影响(使用三氟化甲基),并开发了用于研究等离子体与表面相互作用机理的反应离子束系统。
机译:负电阻双光子光刻技术的使用和加工以实现圆柱磁性纳米线
机译:硅衬底氟酸蚀刻浸入光刻的面漆表征