Semiconductor Leading Edge Technologies, Inc., 16-1 Onogawa, Tsukuba-shi, Ibaraki-ken, 305-8569, Japan;
multi-layer resist; organic film; etching; CD; refractive index;
机译:用于微泡器和天线偶联微致多压仪应用的钒五氧化钒/钒多层薄膜的温度依赖性电阻性
机译:La_(28.9)Ni_(67.5)Si_(3.6)薄膜中氢吸收,电阻率和光学性质之间的相关性
机译:通过金属有机化学气相沉积在r面蓝宝石上生长的a面GaN膜的结构和光学性质之间的相关性
机译:多层抗蚀剂有机膜的蚀刻和光学性质的相关性
机译:通过有机分子束沉积制备的有机膜,多层膜和等离激元金属有机波导的光学特性
机译:用于测微辐射热计和天线耦合测微辐射热计的五氧化二钒/钒多层薄膜的温度相关电阻特性
机译:用于微泡器和天线偶联微致多压仪应用的钒五氧化钒/钒多层薄膜的温度依赖性电阻性
机译:溅射沉积氧化锗(GEOX)薄膜的光学性质与化学成分的相关性(后印刷)。