Process Development Team, Semiconductor RD Center, Samsung Electronics Co., Ltd. San #24, Nongseo-Ri, Giheung-Eup, Yongin-Si, Gyungki-Do, Korea;
sub-80nm contact holes; ArF lithography; ArF thermal flow; ArF SAFIER; ArF RELACS;
机译:S-FIL用于80nm以下的接触孔图案化
机译:S-FIL用于80nm以下的接触孔构图
机译:使用字母方法对集成电路接触孔进行嵌段共聚物定向自组装构图的一般设计策略
机译:模型辅助模板提取SRAF在高端闪存设备制造中的接触孔图案应用
机译:用于绝缘表面上分子器件的金属触点的超高真空制造。
机译:快速模板掩膜制造实现了一步式无聚合物石墨烯图案化和柔性石墨烯器件的直接转移
机译:铝Tris-8-羟基喹啉(ALQ3)器件中孔的重要性与Fe和NiFe触点