【24h】

Photoluminescence and Thermally Stimulated Luminescence in Semi-Insulating SiC

机译:半绝缘SiC中的光致发光和热激发发光

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摘要

We performed non-contact and non-destructive spatially resolved characterization of traps and recombination centers in semi-insulating SiC wafers using thermally stimulated luminescence (TSL) and scanning photoluminescence (PL). In V-free samples, we observe a broad PL band with a maximum at 1.18eV accompanied with a sharp zero-phonon line at 1.34 eV. Intense TSL in the visible and 1R spectral regions yield a glow curve with the maximum at 11 OK attributed to nitrogen traps. The TSL spectrum closely resembles the PL spectrum of the 1.18 eV PL band. Comparison of TSL in V-doped and V-free samples is performed. TSL images are correlated with PL maps.
机译:我们使用热激发发光(TSL)和扫描光致发光(PL)对半绝缘SiC晶片中的陷阱和复合中心进行了非接触式和非破坏性的空间分辨表征。在不含V的样品中,我们观察到一个宽的PL谱带,最大值为1.18eV,同时在1.34 eV处出现了一条尖锐的零声子线。在可见光和1R光谱区域中强烈的TSL产生辉光曲线,在11 OK处的最大值归因于氮陷阱。 TSL光谱与1.18 eV PL波段的PL光谱非常相似。比较了V掺杂样品和无V样品中的TSL。 TSL图像与PL映射相关。

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