Semiconductor Technology Development Department, Toppan Printing Co., Ltd.;
loading effect; Cr dry etching; CD uniformity; correction;
机译:用于HgCdTe刻蚀工艺的干法刻蚀SiO2掩模
机译:通过光学邻近校正掩模设计方法改善三角形排列LCD彩色滤光片中图案的保真度
机译:用于低损伤干蚀刻的新型热蒸发蚀刻面膜
机译:通过干蚀刻效果校正,掩模CD均匀性改善
机译:用于纳米光刻掩模的二氧化硅的化学增强气相蚀刻
机译:通过使用自掩膜蚀刻技术在晶圆表面形成纳米级金字塔提高多晶硅晶圆太阳能电池效率
机译:一种新型热蒸发蚀刻掩模,用于低损伤干蚀刻
机译:通过模板掩模进行干蚀刻的图案转移