Graduate School of Science Technology, Kyoto Institute of Technology, Kyoto, Japan;
Analytical models; Current-voltage characteristics; Logic gates; MOSFET; Mathematical model; Modulation; Semiconductor device modeling; Ge p-channel MOSFETs; analytical current model; channel length modulation;
机译:界面状态产生的频道长度依赖性和氧化血管电荷的漏流雪崩热载体的HFSION / SiO_2 P沟道MOSFET的劣化,具有应变Si / SiGe通道
机译:混合浅沟槽隔离对应力Si / SiGe沟道HfSiON / SiO_2 p沟道MOSFET的NBTI退化的机械应力效应的沟道长度依赖性
机译:硅栅极微结构和栅极氧化物工艺对掺氟的p / sup +/-栅极p沟道MOSFET中阈值电压不稳定性的影响
机译:GE P沟道MOSFET的通道长度调制的栅极电压依赖性
机译:单通道压缩应变下具有沟道的p沟道MOSFET的凹陷硅锗结参数优化研究。
机译:低二价溶液中皮质神经元的激发性主要是通过电压门控钠通道的改变电压依赖性介导的
机译:电离辐射对p沟道功率MOSFET击穿电压的影响