Sci. Technol. on Reliability Phys. Applic. of Electr. Component Lab., Guangzhou, China;
EEPROM; Total dose effect; bias;
机译:三栅极MOSFET对总剂量辐照的响应的鳍宽度和偏置依赖性
机译:深亚微米NMOSFET对总剂量辐照的偏置依赖性
机译:FD晶体管对总剂量辐照的偏置依赖性
机译:辐照EEPROM器件中总剂量效应的偏置依赖性
机译:SiGe PMOS器件上的总电离剂量辐射效应和负偏置温度不稳定性
机译:低剂量率单剂量和高剂量率分次全身照射对鼠造血区室的类似作用。独特剂量为750 cGy后的初步结果。
机译:辐射退火筛选半导体器件中的总剂量效应
机译:持续评估双极线性器件的总剂量偏差依赖性和ELDRs效应