Surface and Microanalysis Science Division, National Institute of Standards and Technology, Gaithersburg, MD 20899-8370, USA;
机译:X射线光电子能谱法测定二氧化硅薄膜厚度的系统不确定性
机译:通过X射线光电子能谱细化计算SiO_2膜厚度的有效衰减长度
机译:光滑溅射Fe-N-C膜的X射线光电子能谱和转盘电极测量
机译:X射线光电子能谱测量栅氧化物膜厚度
机译:以X射线光电子谱(XPS)和光学光谱分析
机译:X射线光电子能谱法测定核壳纳米粒子壳厚的两种方法的评价
机译:X射线光电子能谱测量栅氧化物膜厚度