Leica Microsystems Lithography GmbH Goeschwitzer Strasse 25, D-07745 Jena Germany;
data preparation; e-beam; proximity effect correction; MGS; PROXECCO multithreading; leica ZBA;
机译:电子扫描和电子束光刻系统中基于图像的硅光电二极管基于图像的原位电子束漂移检测
机译:使用紫外线可固化正性电子束光刻胶,通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造
机译:使用蛋清作为抗蚀剂的水基光纤和电子束光刻
机译:基于多线程MGS / Proxecco的电子束光刻数据准备
机译:用于多束电子束光刻的薄膜栅极光阴极。
机译:像差校正电子束光刻对悬浮石墨烯器件电子传输的影响的原位研究
机译:基于严格的基于模型的掩模数据准备算法应用于微米秤的图案化的灰度光刻
机译:用于可信赖的microchip生产的无掩模电子束光刻。