Maskless Electron-Beam Lithography for Trusted Microchip Production.

机译：使用基于图像处理的光流体无掩模光刻和有轨微流体技术对硅微芯片进行光流体封装和处理

机译：使用紫外线可固化正性电子束光刻胶，通过紫外-纳米压印光刻和电子束光刻进行微通道制造

机译：反射电子束光刻：使用反射电子束光刻概念的无掩模电子束直接写入光刻方法

机译：利用nc-Si电子发射极阵列开发无掩模电子束光刻技术

机译：用于多束电子束光刻的薄膜栅极光阴极。

机译：快速声光雕刻用于按需非掩模光刻

机译：使用电子束光刻和三维激光光刻，用三维聚苯乙烯胶体晶体浸渍金属布线

机译：用于确定补偿光刻术的起始位置和姿势的无影制版术设备以及确定无光刻术的光刻术的起始位置和构象的方法

机译：活化室和套件，用于处理设备中以降低电子亲和力，包含所述成套工具并用于降低电子亲和力的处理设备，光电阴极电子束源，含电子枪的电子枪，含电子阴极的电子电极显微镜，扫描电子显微镜，电子束全息照相术，电子束光刻设备，电子束衍射设备和电子束扫描设备

机译：活化室和套件，用于处理设备中以降低电子亲和力，包含所述成套工具并用于降低电子亲和力的处理设备，光电阴极电子束源，含有电子枪的电子枪，包含电子的电极，电阴极，电子电极显微镜，扫描电子显微镜，电子束全息照相术，电子束光刻设备，电子束衍射设备和电子束扫描设备