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【2h】

Rigorous Model-Based Mask Data Preparation Algorithm Applied to Grayscale Lithography for the Patterning at the Micrometer Scale

机译：基于严格的基于模型的掩模数据准备算法应用于微米秤的图案化的灰度光刻

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Pierre Chevalier; Patrick Quemere; Sebastien Berard-Bergery; Jean-Baptist Henry; Charlotte Beylier; Jerome Vaillant;
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年度 2021
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