浅析磁控溅射部分氧化镍铬膜工艺

摘要

在磁控溅射低辐射镀膜玻璃生产工艺中，镍铬膜经常被用在银膜的上面作为保护层，防止后续沉积介质膜(氧化锡、氧化钦、氮化硅)时，有害气体和杂质污染、腐蚀银膜。有很多种生产工艺要求在银膜下面，也沉积一层镍铬膜，阻挡玻璃表面的钠离子和银膜下面介质层中的有害物质对其腐蚀，特别是可钢化低辐射镀膜玻璃生产工艺中，银膜上、下各有一层镍铬膜的组合，应用比较广泛。镍铬膜对可见光有一定的吸收作用，提高低辐射镀膜玻璃可见光透过率的方法有很多，其中一种是降低镍铬膜厚度，但降得太低就起不到保护银膜的作用。银膜上、下各有一层镍铬膜的可钢化低辐射镀膜玻璃产品，钢化前可见光透过率很难达到70%，无法达到80%。如果将镍铬膜替换成部分氧化镍铬膜，就很容易生产出可见光透过率70%，甚至80%的产品。部分氧化镍铬膜不仅具有纯镍铬膜一样的保护功能，而且还具有可见光吸收率低，与介质膜结合力强的优点，缺点是膜层厚度要增加，膜层溅射沉积工艺控制有一定难度和技巧。