一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶

摘要

本发明涉及一种磁控溅射工艺中使用的旋转镍铬靶,包括旋转镍铬靶管体，固定卡扣，旋转轴，电机，电机控制单元，支撑架；所述旋转镍铬靶管体两端分别连有两个所述旋转轴，所述旋转轴通过所述固定卡扣配合与所述旋转镍铬靶管体相对固定，所述旋转镍铬靶管体一端的所述旋转轴与所述支撑架相连，所述旋转镍铬靶管体另一端的所述旋转轴与所述电机相连。本发明的靶材利用率高，溅射速率高，有效减少打弧和靶面掉渣，工艺稳定性好。