椭偏仪的自校准和测量不确定度分析

摘要

为保证微机电系统(MEMS)工艺制作过程中薄膜厚度测量的准确、可靠,依据《GJB/J5463-2005光学薄膜折射率和厚度测试仪检定规程》、《GJB1317A-2006军用检定规程和校准规程编写通用要求》等技术文件编制"椭偏仪自校准规程".依据规程对SE500椭偏仪、SpecEI-2000椭偏仪的外观及工作正常性、薄膜厚度最大误差等技术要求进行校准,对整个校准过程测量不确定度进行评估,确定测量结果可信,量值准确,测量过程处于受控状态.

著录项

相似文献

  • 中文文献
  • 外文文献
  • 专利
获取原文

客服邮箱:kefu@zhangqiaokeyan.com

京公网安备:11010802029741号 ICP备案号:京ICP备15016152号-6 六维联合信息科技 (北京) 有限公司©版权所有
  • 客服微信

  • 服务号