光刻胶用成膜树脂研究进展

摘要

成膜树脂是光刻胶的基础,是制约光刻胶发展的关键原料.随着光刻技术的分辨率由90、65和45nm迈向更先进的32nm 或以下时,与之相应的成膜树脂的研发,对光刻胶的分辨率、成像灵敏度等各项性能起着至关重要的作用.本文首先介绍了光刻胶用成膜树脂的来源广、容易提纯等特点，然后分别对负性光刻胶用成膜树脂、正性光刻胶用成膜树脂、化学放大光刻胶用成膜树脂等近几年来研究开发情况进行简要的归纳总结.