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多晶硅注入ＢＦ〈，２〉〈’＋〉对ＣｏＳｉ〈，２〉特性的影响

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来源
《第十届全国电子束、离子束、光子束学术年会》|1999年|169-172|共4页
会议地点长沙
作者
罗葵; 高玉芝; 王玮; 孙玉秀; 刘诗美;
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作者单位

中国电子学会;

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会议组织
正文语种
原文格式 PDF
中图分类 TN304.12;
关键词
钴的硅化物; ＢＦ〈; ２〉〈’＋〉注入; 多晶硅; 薄层电阻; 高温稳定性;
入库时间 2022-08-17 10:31:36

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