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刘志杰; 张卫; 王鹏飞; 丁士进;
中国电子学会;
金刚石; 化学气相淀积; 驱动力; 氯;
机译:在低衬底温度下{100}取向CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第二部分C-H系统和含Cl体系中CVD金刚石膜生长的模拟
机译:通过ECR辅助CVD研究在低温和低压下生长的金刚石膜
机译:低压下CVD金刚石的薄膜生长条件
机译:氮化硅和硬质碳化钨工具上的微波辅助CVD金刚石涂层的分析和实验研究以及几种过渡金属上多晶金刚石的生长
机译:多层氮掺杂外延生长法制备的CVD单晶金刚石的界面和力学性能
机译:大面积硅衬底上的CVD金刚石生长大面积硅衬底上的CVD金刚石生长
机译:金刚石CVD源气体化学中的动力学效应及对金刚石生长的影响
机译:一种旋转工具,设计有可通过注射模具或机械在各个方向上移动(排屑)的尖端,并带有涂层(金刚石的CVD金刚石生长工艺),可在工业和医学上应用和使用不同
机译:基于高生长速率的单晶CVD金刚石的新金刚石用途/应用
机译:金刚石在金刚石基底上的单晶同质外延生长-通过将冷却的基底保持在碳氢化合物气体和氧气的火焰中
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