机译:在低衬底温度下{100}取向CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第二部分C-H系统和含Cl体系中CVD金刚石膜生长的模拟
Materials Science and Engineering School, University of Science & Technology Beijing, Beijing 100083, China;
CVD diamond film; atomic Cl; revised KMC (kinetic monte carlo) method; atomic scale simulation;
机译:在低衬底温度下{100}取向的CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第一部分,Joe-Badgwell-Hauge模型下的CVD金刚石膜生长的模拟
机译:在低衬底温度下{100}取向CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第一部分,Joe-Badgwell-Hauge模型下CVD金刚石膜生长的模拟
机译:化学气相沉积在C-H和C-H-Cl系统中{100}取向金刚石薄膜生长的原子尺度动力学蒙特卡罗模拟
机译:新{111}的原子尺寸动力学蒙特卡罗(KMC)模拟 - {111}的化学气相沉积(CVD)金刚石薄膜生长过程:两步生长
机译:硅(111)表面重建,半导体和半导体超晶格,纳米技术的氢提取,聚硅烷和CVD金刚石生长的分子力学和从头算模拟。
机译:封闭热丝CVD系统中金刚石膜的沉积
机译:用热丝CVD法模拟硅片上金刚石薄膜生长中衬底温度分布