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张剑云; 王鹏飞; 丁士进; 张卫; 王季陶; 刘志杰;
复旦大学电子工程系CVD研究室;
PhysikalischeChemieI,UniversityofBielefeld;
化学气相淀积; 金刚石薄膜; 热力学; 取向生长;
机译:在低衬底温度下{100}取向CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第二部分C-H系统和含Cl体系中CVD金刚石膜生长的模拟
机译:在低衬底温度下{100}取向的CVD金刚石膜生长的原子尺度KMC模拟-第一部分,Joe-Badgwell-Hauge模型下的CVD金刚石膜生长的模拟
机译:B2O3-乙醇-Ar体系对硼掺杂CVD金刚石薄膜生长的表面改性
机译:CVD金刚石薄膜的成核和生长的纳米金刚石种子
机译:氮化硅和硬质碳化钨工具上的微波辅助CVD金刚石涂层的分析和实验研究以及几种过渡金属上多晶金刚石的生长
机译:CVD金刚石薄膜的3D断层扫描EBSD分析
机译:金刚石薄膜上碳纳米管生长的三种不同化学气相沉积(CVD)技术的比较研究。
机译:一种旋转工具,设计有可通过注射模具或机械在各个方向上移动(排屑)的尖端,并带有涂层(金刚石的CVD金刚石生长工艺),可在工业和医学上应用和使用不同
机译:基于高生长速率的单晶CVD金刚石的新金刚石用途/应用
机译:化学连接的金刚石薄膜,用于CVD金刚石膜成核
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