电子束光刻技术

摘要

为适应我国开展亚微米、深亚微米以至纳米级光刻技术的研究和开发的需要，吕国科学院微电子中心近期引进了ＪＢＸ－５０００ＬＳ电子束光刻系统，着重介绍利用该设备开展电子束直写及超微细加工技术研究中遇到的几个关键问题，包括电子束与光学曝光系统匹配和混合光刻技术、电子束曝光邻近效应校正技术和电子束抗蚀剂应用技术。