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王迪; 王国政;
长春理工大学 吉林省长春市130000;
电子束光刻技术; ICP刻蚀技术; 研究;
机译:电子束光刻技术和干法刻蚀技术制造的三维微观结构元素
机译:通过反应离子刻蚀,电子束和干涉光刻技术制成的高纵横比纳米多孔膜
机译:ArF水浸式光刻技术的后续产品:EUV光刻技术,多电子束无掩模光刻技术还是纳米压印技术?
机译:通过与方向有关的刻蚀和电子束光刻技术制造鳍式双栅MOSFET(FXMOS)结构
机译:用于半球成像器的a-硅:氢TFT被动像素传感器的无掩模激光刻蚀光刻技术。
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制造的三角形孔阵列
机译:球面光刻技术结合金属辅助化学刻蚀和各向异性化学刻蚀在Si(111)衬底上制备的三角形孔阵列
机译:利用电子束光刻技术进行纳米结构工程
机译:电子束光刻技术的数据形成方法,电子束光刻技术,制造半导体器件的方法以及电子束光刻技术
机译:电子束光刻技术和电子束光刻技术的框架成员
机译:电子束光刻技术和电子束光刻技术
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