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甘学温; 王旭社; 张兴;
中国电子学会;
双珊; 环珊; 短沟效应;
机译:双卤栅堆叠三材料双栅MOSFET阈值电压和漏极电流的二维分析模型
机译:短沟道非对称双栅材料双栅MOSFET的分析阈值电压模型
机译:带有界面陷阱电荷的双栅和全栅栅MOSFET的退化模型,包括沟道移动载流子的影响
机译:具有双材料底栅的高K栅叠层双材料三栅极绝缘体上硅MOSFET的3D分析建模和SCE的综合分析
机译:通过隧道外延,使用氮化的热氧化物作为栅绝缘体,开发自对准双栅MOSFET的工艺流程。
机译:具有多个外延层的150–200 V分离栅沟道功率MOSFET
机译:双材料环栅mOsFET抑制短沟道效应(sCEs)的分析研究
机译:后栅等离子体和溅射工艺对金属栅CmOs集成电路辐射硬度的影响
机译:用于MOSFET的半导体结构,具有与n型双栅晶体管的背栅的一部分和p型双栅晶体管的背栅的一部分相接触的单阱,其中栅极被相同的掺杂剂掺杂。
机译:用于包括平面双栅MOSFET的底栅的埋线互连的独立底栅连接的形成方法
机译:形成用于掩埋互连的独立底栅连接的方法,包括平面双栅MOSFET的底栅
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