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秦江; 大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室; 杜立群; 大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室; 刘冲; 大连理工大学辽宁省微纳米技术及系统重点实验室; 朱神渺;
中国微米/纳米技术学会;
中国仪器仪表学会;
中国机械工程学会;
SU-8胶; 菲涅耳衍射; 尺寸公差; 紫外光刻;
机译:使用AZ光刻胶作为金属化Si衬底上的牺牲层,释放高深宽比的SU-8微结构
机译:利用SU-8光刻胶的超厚微流控微结构的新制造工艺
机译:用于微结构加工的SU-8层的丝网印刷用于微结构加工的SU-8涂层
机译:在具有优异粘合强度和SU-8光刻胶的改良钛基材上制备高纵横比的微结构
机译:使用掩埋的光刻胶掩模方法制造多层,独立式,SU-8结构
机译:SU-8光刻胶的185 nm扩散光光刻技术原型制作的具有轴突分离的微流体长期梯度发生器
机译:使用su-8光刻胶的直接x射线光刻制造电容式压力传感器
机译:采用sU-8光刻胶的220-GHz片状光束放大器光栅的UV-LIGa微加工
机译:尺寸公差计算器,尺寸公差计算方法和计算机可读记录介质记录尺寸公差计算程序
机译:尺寸公差计算设备,尺寸公差计算方法以及具有记录的尺寸公差计算程序的计算机可读记录介质
机译:尺寸公差计算装置,尺寸公差计算方法以及具有记录的尺寸公差计算程序的计算机可读记录介质
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