机译:使用X射线和离子束光刻技术比较新型光刻胶(DiaPlate 133)与SU-8
机译:SU-8光刻胶用于超高纵横比X射线光刻的用途
机译:使用纳米压印光刻技术和低压热粘合方法制造尺寸可控的SU-8纳米通道
机译:大面积MEMS制造,将厚实的SU-8光致抗蚀剂应用于X射线图像传感器阵列
机译:使用掩埋的光刻胶掩模方法制造多层,独立式,SU-8结构
机译:基于图案化超厚光刻胶的基于MEMS的压力传感器封装的制造和性能
机译:基于图案化超厚光刻胶的基于MEMS的压力传感器封装的制造和性能