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王家鑫; 尹盛; 王飞; 王敬义;
中国仪器仪表学会;
中国物理学会;
中国光学学会;
粉体表面刻蚀; 硅粉刻蚀纯化; 太阳级硅; 直流冷等离子体; 直流辉光放电;
机译:随时间变化的硅刻蚀行为及其对CF_4 + D_2电子回旋共振等离子体刻蚀中氧化物/硅选择性的影响
机译:在卤素基等离子体中进行硅刻蚀时,反应器壁对等离子体化学性质和硅刻蚀产物密度的影响
机译:H_2―He―CH_4流动冷等离子体进行露天硅刻蚀
机译:RF热等离子体冶炼冶金硅粉的纯化与氢化。矿床表征
机译:硅/硅锗化物异质结构的各向异性碳氟化合物等离子体刻蚀和等离子体刻蚀引起的侧壁损伤
机译:使用两步金属辅助化学刻蚀方法由冶金级硅粉形成硅纳米线填充膜
机译:薄栅氧化物多晶硅等离子体刻蚀中微缝的形成
机译:以硅为靶的氩等离子体中射频溅射刻蚀研究
机译:等离子体刻蚀装置的硅成分回收方法及等离子体刻蚀装置的硅成分回收方法
机译:等离子体刻蚀装置的硅成分的制造方法及等离子体刻蚀装置的硅成分的制造方法
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