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Support substrate for radioisotope production, target plate for radioisotope production, and production method for support substrate

机译:用于放射性同位素生产的支持基材,用于放射性同位素的靶板,以及支撑基材的生产方法

摘要

Provided is a target plate for radioisotope production that has sufficient durability and sufficient heat resistance for use in radioisotope production and that is capable of reducing the extent of radioactivation. In a target plate for radioisotope production, a support substrate, which supports a target, includes a graphite film(s). The thermal conductivity in a surface direction of the graphite film(s) is 1200 W/(m·K) or greater, and the thickness of the graphite film(s) is 0.05 μm or greater and 100 μm or less.
机译:提供了一种用于放射性同位素生产的靶板,其具有足够的耐久性和充分的耐热性用于放射性同位素的生产,并且能够降低放射性程度。 在用于放射性同位素的靶板中,支撑靶的支撑基材包括石墨膜。 石墨膜的表面方向的导热率为1200W /(m·k)或更大,石墨膜的厚度为0.05μm或更大,100μm或更小。

著录项

  • 公开/公告号US11239003B2

    专利类型

  • 公开/公告日2022-02-01

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KANEKA CORPORATION;

    申请/专利号US201716077377

  • 申请日2017-04-20

  • 分类号G21K5/08;G21G1/10;G21G4/08;C01B32/205;C01B32/21;B32B9;B32B15/04;H05H6;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-24 23:34:55

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