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SUPPORT SUBSTRATE FOR RADIOISOTOPE PRODUCTION, TARGET PLATE FOR RADIOISOTOPE PRODUCTION, AND PRODUCTION METHOD FOR SUPPORT SUBSTRATE

机译:用于放射性同位素生产的支持基质,用于放射性同位素生产的靶板以及用于支持基质的生产方法

摘要

Provided is a target plate for radioisotope production that has sufficient durability and sufficient heat resistance for use in radioisotope production and that is capable of reducing the extent of radioactivation. In a target plate (10) for radioisotope production, a support substrate (2), which supports a target (1), includes a graphite film(s). The thermal conductivity in a surface direction of the graphite film(s) is 1200 W/(m·K) or greater, and the thickness of the graphite film(s) is 0.05 µm or greater and 100 µm or less.
机译:提供了一种用于放射性同位素生产的靶板,其具有足够的耐久性和足够的耐热性以用于放射性同位素生产,并且能够减少放射性活化的程度。在用于放射性同位素生产的靶板(10)中,支撑靶(1)的支撑基板(2)包括石墨膜。石墨膜的表面方向的热导率为1200W /(m·K)以上,石墨膜的厚度为0.05μm以上且100μm以下。

著录项

  • 公开/公告号EP3447774A1

    专利类型

  • 公开/公告日2019-02-27

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 KANEKA CORPORATION;

    申请/专利号EP20170786034

  • 申请日2017-04-20

  • 分类号G21K5/08;C01B32/205;C01B32/21;G21G1/10;G21G4/08;

  • 国家 EP

  • 入库时间 2022-08-21 12:26:11

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