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WAFER PROCESSING TEMPORARY ADHESIVE, WAFER LAMINATE, THIN WAFER MANUFACTURING METHOD

机译:晶圆加工临时粘合剂,晶片层压板,薄晶片制造方法

摘要

Provided are: a wafer processing temporary adhesive that is for temporarily adhering a wafer to a support and that comprises a thermosetting silicone resin composition containing a non-functional organopolysiloxane; a wafer laminate; and a thin wafer manufacturing method.
机译:提供:晶片加工临时粘合剂,用于临时将晶片临时粘附到支撑件上,并且包括含有非功能性有机聚硅氧烷的热固性硅树脂组合物;晶片层压板;和薄的晶片制造方法。

著录项

  • 公开/公告号WO2021112070A1

    专利类型

  • 公开/公告日2021-06-10

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 SHIN-ETSU CHEMICAL CO. LTD.;

    申请/专利号WO2020JP44638

  • 发明设计人 MUTO MITSUO;TAGAMI SHOHEI;SUGO MICHIHIRO;

    申请日2020-12-01

  • 分类号C09J11/04;C09J11/06;C08L83/05;C08L83/07;C09J183/04;C09J183/05;C09J183/07;H01L21/304;

  • 国家 JP

  • 入库时间 2022-08-24 19:17:32

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