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HYDRIDE ENHANCED GROWTH RATES IN HYDRIDE VAPOR PHASE EPITAXY

机译:氢化物增强氢化物气相外延的生长速率

摘要

Presented herein are reactors for growing or depositing semiconductor films or devices. The reactors disclosed may be used for the production of materials grown by hydride vapor phase epitaxy (HVPE).
机译:本文呈现的是用于生长或沉积半导体膜或装置的反应器。所公开的反应器可用于生产由氢化物气相外延(HVPE)生长的材料。

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