公开/公告号CN215481424U
专利类型实用新型
公开/公告日2022-01-11
原文格式PDF
申请/专利权人 苏州纳维科技有限公司;
申请/专利号CN202121751342.9
申请日2021-07-29
分类号C30B29/40(20060101);C30B25/02(20060101);C30B25/10(20060101);C30B25/14(20060101);C30B25/16(20060101);
代理机构32256 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);
代理人赵世发
地址 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20幢518室
入库时间 2022-08-23 03:48:46
机译: 在非单晶III-V族化合物半导体缓冲层上生长单晶III-V族化合物半导体层的方法
机译: 在衬底上沉积III-V族半导体化合物的方法以及在衬底上外延生长III-V族半导体化合物的方法。
机译: 从液相在含铝的III-V族化合物层上生长III-V族化合物外延第二层的方法