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氢化物气相外延法生长III-V族化合物单晶的设备

摘要

本实用新型公开了一种氢化物气相外延法生长III‑V族化合物单晶的设备,包括:HVPE反应腔室,具有沿预设方向依次连通设置的第一区域、第二区域、第三区域,第一区域可供III族元素源与氮源反应生成III族氮化物单晶、氢气和卤素氢化物,第二区域可供III族元素源与氢气反应生成III族元素单质和卤素氢化物;第三区域可供氮源与卤素氢化物反应生成铵盐;加热装置,用于分别对所述第一、第二和第三区域进行加热;氮源和III族元素源供给机构,所述氮源和III族元素源供给机构与HVPE反应腔室连接。所述设备提高了III族氮化物单晶的产量和纯度,并能回收III族元素单质,降低了III族氮化物单晶的制备成本。

著录项

  • 公开/公告号CN215481424U

    专利类型实用新型

  • 公开/公告日2022-01-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 苏州纳维科技有限公司;

    申请/专利号CN202121751342.9

  • 发明设计人 蔡德敏;徐琳;张波;沈振华;

    申请日2021-07-29

  • 分类号C30B29/40(20060101);C30B25/02(20060101);C30B25/10(20060101);C30B25/14(20060101);C30B25/16(20060101);

  • 代理机构32256 南京利丰知识产权代理事务所(特殊普通合伙);

  • 代理人赵世发

  • 地址 215000 江苏省苏州市工业园区金鸡湖大道99号苏州纳米城西北区20幢518室

  • 入库时间 2022-08-23 03:48:46

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