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首页> 外国专利> The deposition of a beam of ions as a means for making the electrical circuits and of the elements of electrical circuits

The deposition of a beam of ions as a means for making the electrical circuits and of the elements of electrical circuits

机译：沉积离子束，作为制造电路和电路元件的一种手段

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机译：

著录项

  • 公开/公告号FR1339581A

    专利类型

  • 公开/公告日1963-10-11

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 MCDONNELL AIRCRAFT CORP;MCDONNELL AIRCRAFT CORPORATION;

    申请/专利号FR19620904388

  • 发明设计人

    申请日1962-07-18

  • 分类号C23C8/36;C23C14/22;H01B1;H01B3/10;H01C17/12;H01J37/317;H01L21;H01L49/02;

  • 国家 FR

  • 入库时间 2022-08-23 17:02:51

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