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机译：在二元半导体化合物中外延生长的薄膜的制造方法
公开/公告号FR1485970A
专利类型
公开/公告日1967-06-23
原文格式PDF
申请/专利权人 SIEMENS AG;SIEMENS & HALSKE AKTIENGESELLSCHAFT;
申请/专利号FR19660068011
发明设计人
申请日1966-07-04
分类号C01B25/06;C22C1;H01L21/205;
国家 FR
入库时间 2022-08-23 14:00:08
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