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机译:具有均匀厚度的薄膜电路板的制造方法
公开/公告号JPS57121293A
专利类型
公开/公告日1982-07-28
原文格式PDF
申请/专利权人 NIPPON TOKUSHU TOGYO KK;
申请/专利号JP19810008285
发明设计人 OOTANI SHIYOUGO;KATOU MASAHIRO;
申请日1981-01-21
分类号H05K1/02;H05K3/00;
国家 JP
入库时间 2022-08-22 14:24:57
机译: 用于生产具有亚埃厚度均匀性或定制厚度梯度的溅射薄膜的方法和系统
机译: 使用功率调制和速度调制的方法和系统产生具有亚埃厚度均匀性或自定义厚度梯度的溅射薄膜
机译: 用载体生产超薄铜箔的方法,用该生产方法生产的超薄铜箔,印刷电路板,多层印刷电路板和用于薄片的多层布线板的超薄铜箔