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Method and device for submicron precision pattern generation

机译:亚微米精密图案生成的方法和装置

摘要

A method and device for creating patterns on a wide variety of substrates. The dimensions are variable in a wide range, from sub- microscopic and upwards. The device can also be used for microsurgery type manipulations in genetic engineering: a variety of substances can be introduced into biological cells. The production of patterns is based on the guidance of the radiation, electron beam etc. via a tube having a small-diameter tapered end which is metal-coated, and which can be brought to very close proximity of the substrate.
机译:一种用于在各种基板上产生图案的方法和设备。尺寸在从亚微观到向上的宽范围内可变。该设备还可以用于基因工程中的显微外科手术:可以将多种物质引入生物细胞。图案的产生是基于辐射,电子束等的引导,该辐射是通过具有小直径锥形端的管进行的,该小端具有金属涂层,并且可以非常接近基板。

著录项

  • 公开/公告号US4880496A

    专利类型

  • 公开/公告日1989-11-14

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 NEBENZAHL;ISAIAH;LEWIS;AARON;

    申请/专利号US19880212532

  • 发明设计人 ISAIAH NEBENZAHL;AARON LEWIS;

    申请日1988-06-28

  • 分类号B44C1/22;C03C15/00;C03C25/06;

  • 国家 US

  • 入库时间 2022-08-22 06:08:18

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