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Holographic, laser-induced fabrication of indium nitride quantum wires and quantum dots

机译:全息激光诱导的氮化铟量子线和量子点的制造

摘要

A semiconductor device is constructed of at least one indium nitride or indium nitride alloy nanostructure on a substrate or other thing film layer. The method used to create the semiconductor device involves illuminating the substrate with a lateral intensity patterning of ultraviolet light in the presence of at least hydrazoic acid and a compound containing indium gas flows. Additionally, a semiconductor light-emitting/detecting modulating device composed of at least one indium nitride or indium nitride alloy nanostructure. The method used to create the semiconductor light-emitting/detecting modulating device involves embedding at least one nanostructure in the interior layer of the device. Further, a monolithic photovoltaic-photoelectrochemical device where one layer is composed of an indium nitride or indium nitride alloy film or nanostructure.
机译:半导体器件由在衬底或其他薄膜层上的至少一个氮化铟或氮化铟合金纳米结构构成。用于制造半导体器件的方法包括在至少氢azo酸和含有铟气流的化合物的存在下,利用紫外光的横向强度图案照射衬底。另外,一种半导体发光/​​检测调制装置,其由至少一个氮化铟或氮化铟合金纳米结构构成。用于制造半导体发光/​​检测调制装置的方法包括在装置的内层中嵌入至少一个纳米结构。此外,一种单片光伏-光电化学装置,其中一层由氮化铟或氮化铟合金膜或纳米结构组成。

著录项

  • 公开/公告号AU5248499A

    专利类型

  • 公开/公告日2000-02-21

    原文格式PDF

  • 申请/专利权人 EMORY UNIVERSITY;

    申请/专利号AU19990052484

  • 发明设计人 GUY D. GILLILAND;MING-CHANG LIN;

    申请日1999-07-30

  • 分类号C23C16/04;C30B25/10;C30B29/60;H01L21/205;H01L29/12;H01L29/20;H01L29/24;H01L33;

  • 国家 AU

  • 入库时间 2022-08-22 01:51:38

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